氧化鋅薄膜的p型摻雜及光學(xué)和電學(xué)性質(zhì)
1.1 實(shí)驗所需測量?jì)x器 以Kratos公司生產(chǎn)的分析儀器進(jìn)行XPS測量;能量為1486.6eV的Al Ka射線(xiàn)陽(yáng)極功率為225W的激光光源;束縛能采取碳氫化合物Cls的284.8eV峰作為能量校正;XRD測試采取DMAX2400型X射線(xiàn)衍射譜;測角儀設置,防散狹縫及發(fā)散狹縫均為1°,接收狹縫為0.30 mm;掃描速度為4°/min,掃描范圍在20°~80°之間;使用SMS1000型霍爾測量?jì)x進(jìn)行摻雜活性原子N的ZnO薄膜Hall測量;使用F-2500型光譜儀進(jìn)行吸收光譜及光致發(fā)光光譜測量;PL...